القياسات
يمتلك المعهد من خلال الاقسام العلمية مجموعة كبيرة من أجهزة قياس عالية الدقة فى مجال الالكترونيات والاتصالات والقوى الكهربائية بالإضافة الى المعامل المركزية ( مثل معمل قياس معدل الامتصاص النوعي - معالجة المخلفات الالكترونية - وقياس دوائر الموجات الملليمترية - معمل تحليل المواد) والمعامل المتخصصة ( معمل نانو تكنولوجي - معمل الحوسبة السحابية).
شاهد ماذا نقدم..
RF/DC/reactive Magnetron sputtering system with heated and rotated sample holder with thickness monitor
أنواع مختلفة من المواد (المعادن / أشباه الموصلات / العوازل الكهربائية) ترسيب الأغشية الرقيقة على ركائز مختلفة الأهداف (Au، Ag، Cu، Ti، Ni، Cu، Al، C، Si، ITO، ZnO، Al-ZnO، إلخ.
High vacuum Thermal evaporation with thickness monitor and sample rotation
التبخر الحراري للمواد باستخدام قوارب Mo/W. أغشية معدنية كبيرة الحجم ذات موصلية عالية ونمط لامع على السيليكون والزجاج والبلاستيك وغيرها من الركائز.
High Power/Qswitched nanosecond UV 10W355nm NIR 50W1068nm High speed laser engraver system.
نظام ليزر انتقائي عالي السرعة للزخرفة ومعالجة الطباعة الحجرية المجففة بدقة 25 ميكرون باستخدام تصميمات CAD على مواد مختلفة.
5V/5A 8- channels Battery analyzer
قم بقياس أداء خلية العملة/الأسطوانة CV/CC حتى 5A/5V.
Potentiostat/ galvanostat VSP -300 Bio -Logic
يستخدم لقياس وتوصيف التحليل الكهروكيميائي لتطبيقات مختلفة مثل أجهزة الاستشعار والمكثفات الفائقة والبطاريات.
- 1A/10V EIS card
- 4V/14 Booster
- 1A/48V Booster
- Ultra-low current option.
- 3-electrodes 150 ml standred cell (Ag/AgCl - calomel and Pt wire electrodes)
UV/VIS/NIR 200 -950 nm Spectrometer
إنه جهاز لقياس الأطوال الموجية للضوء عبر نطاق واسع من الطيف الكهرومغناطيسي. يستخدم على نطاق واسع للتحليل الطيفي للمواد العينة. يمكن أن ينتقل الضوء الساقط من مصدر الضوء أو يمتصه أو ينعكس من خلال العينة.
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
PECVD هي عملية ترسيب بخار كيميائي تستخدم لترسيب الأغشية الرقيقة من الحالة الغازية (البخار) إلى الحالة الصلبة على الركيزة. وتشارك في هذه العملية التفاعلات الكيميائية التي تحدث بعد تكوين بلازما الغازات المتفاعلة
Monowave300 (Microwave Reactor)
يعد استخدام تشعيع الميكروويف أداة فعالة لتخليق البلورات النانوية. يمكن استخدامه لزيادة درجة حرارة العينة حتى 300 درجة مئوية والضغط حتى 30 بار حسب المواصفات المطلوبة وزمن التشغيل.
High Energy ball milling
إن Emax هو نوع جديد تمامًا من المطاحن الكروية لطحن الطاقة العالية. يؤدي المزيج الفريد من الاحتكاك العالي والتأثير إلى إنتاج جزيئات دقيقة للغاية في أقصر فترة زمنية.
Screen system
نظام غربال بشبكات مختلفة 5 و 30 و 50 ميكرون. يمكن استخدامه لتصفية المواد الدقيقة بناءً على حجم المسحوق
3 Grinding Ball Milling
في عملية الطحن بالكرات هذه، يتعرض خليط المسحوق إلى تصادم عالي الطاقة من الكرات الصلبة. تقشير عينات المسحوق وكذلك طحن الجزيئات الكبيرة